FF-7702 Lichtsauer Zinnplattierung - Formaldehydfreier schneller Ablagerung Stabilprozess Elektronische Plattierung Chemikalie
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Hervorheben
Formaldehydfreie Zinnbeschichtung
,Schnelle Ablagerung durch Lichtsäure-Zinnplattierung
,Stabiler Prozess Elektronische Plattierung Chemikalie
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TypHelles saures Zinn
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verwendenVerzinnen
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ArtikelChemischer Hilfsstoff
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BesonderheitSchnelle Absetzung, stabiler Prozess
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HerkunftsortChina
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MarkennameFENGFAN
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ModellnummerFF-7702
FF-7702 Lichtsauer Zinnplattierung - Formaldehydfreier schneller Ablagerung Stabilprozess Elektronische Plattierung Chemikalie
FF-7702 Lichtsäure-Zinnplattierung
Das FF-7702 Lichtzinnbeschichtungsprozess ist eine formaldehydfreie, schäumungsarme Sulfatzinnbeschichtungslösung, die eine hell silberweiße duktile Zinnbeschichtungsschicht erzeugt.Dieses Verfahren eignet sich sowohl für Fass- als auch für Rackplattenanwendungen.
Merkmale und Anwendungen
- Antioxidantien mit besonderer Wirkung verlängern die Lebensdauer des Bades
- Formaldehydfreies Zinnplattierungsprozess mit geringem Schaumgehalt
- Ausgezeichnete Schweißfähigkeit und einheitliche Plattierung für elektronische Anwendungen
- Stabile Beschichtungsleistung
- Nicht korrodierend für Isolatoren einschließlich Keramik und Bleiglas
Betriebsbedingungen
| Artikel | Reichweite | Optimal |
|---|---|---|
| Stansulfat | 20 bis 40 g/l | 30 g/l |
| Schwefelsäure (H2SO4) | 150 bis 170 g/l | 160 g/l |
| FF-7702A | 20 bis 40 ml/l | 30 ml/l |
| FF-7702B | 00,5-3 ml/l | 2 ml/l |
| Temperatur | 5 bis 20°C | 15-20°C |
| Dichte des Kathodenstroms (Rackplattierung) | 1.0-3,0 A/dm2 | 2.0 A/dm2 |
| Dichte des Kathodenstroms (Fassplattierung) | 0.3-1.0 A/dm2 | 0.5 A/dm2 |
| Anodenstromdichte | 0.5-2.0 A/dm2 | 1.0 A/dm2 |
| Rühren (Kathodenrütteln) | 3-4 m/min | 3-4 m/min |
| Filter | Kontinuierlich | Kontinuierlich |
| Plattiergeschwindigkeit | - | 1 μm/min (2 A/dm2) |
Aufbereitung der Lösung
- Der Plattiertank, die Filterpumpe, die Anode und die Anodenbeutel mit 10% (v/v) Schwefelsäure reinigen und dann gründlich mit Wasser waschen
- 50% des erforderlichen Volumens des deionisierten oder destillierten Wassers in den Behälter gegeben werden,dann die erforderliche Menge Schwefelsäure beim Rühren hinzufügen (beim Hinzufügen von Schwefelsäure geeignete Schutzmaßnahmen treffen)
- Verschiedene Zinnstangen in die Lösung geben, während des Rührens die erforderliche Menge an Stansulfat hinzufügen und die Lösung bis zur vollständigen Auflösung auf nicht mehr als 50 °C erhitzen
- Hinzufügen von deionisiertem oder destilliertem Wasser, um das Endvolumen zu erreichen
- Nach Abkühlung der Plattierungslösung auf Raumtemperatur werden FF-7702A und B zugesetzt, während gerührt wird
- Für eine optimale Leistung wird eine kleine Stromelektrolyse von 2-3 Ah/L durchgeführt.
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